Articulo
Crecimiento de películas delgadas de ZnO por nebulización pirolítica
Growth of ZnO thin films by pyrolytic nebulization
Autor
Morinigo, Luis Ezequiel
Vaveliuk, Pablo
Tejerina, Matías Rubén
Institución
Resumen
Los films de ZnO depositados por nebulización pirolítica son una buena opción como materiales semiconductores transparentes de bajo costo. El proceso de nebulización pirolítica conlleva la evaporación de una solución que contiene iones de Zn sobre un sustrato que se mantiene a temperatura constante entre 350°C y 450°C. Una posibilidad para obtener recubrimientos de baja resistividad (del orden de 0.1 ohm*cm) es lograr capas homogéneas de baja porosidad de un espesor del orden de 1 m. En este trabajo se presenta el resultado de variar la proporción agua/etanol utilizado como solvente. Facultad de Ciencias Agrarias y Forestales