Tesis de maestría
Optimización de películas delgadas de silicio microcristalino y polimorfo, depositadas por la técnica PECVD, para aplicaciones en celdas solares
Fecha
2018-01Autor
LUNA ZEMPOALTECA, XOCHILT; 709945
Luna Zempoalteca, Xochilt
Resumen
"La electricidad generada por medio de la conversión de la energía solar, es considerada como una de las fuentes alternas más prometedoras y limpias que puede sustituir el uso de combustibles fósiles, por lo que su estudio y desarrollo se ha vuelto un tema de gran interés en años recientes. Las celdas solares de película delgada presentan bajos costos de producción debido a que éstas pueden ser depositadas sobre vidrios, láminas metálicas o plásticos flexibles utilizando una cantidad mínima de material para la formación de la película. En este contexto tenemos al silicio amorfo hidrogenado (a-Si:H), silicio microcristalino (µc-Si:H) y silicio polimorfo (pm-Si:H), los cuales son semiconductores de gran interés en la industria fotovoltaica, porque pueden depositarse en forma de película delgada de bajo costo y producción masiva. El método de depósito PECVD ha sido una de las técnicas más utilizadas para la producción de a-Si:H, µc-Si:H y pm-Si: H. Presentando ventajas en comparación con otras técnicas como lo son depósitos en áreas grandes (>1m2), temperaturas de depósito bajas (<300°C) y su uso generalizado en el campo de la electrónica, donde ha demostrado su
fiabilidad y reproducibilidad".