Optimización de películas delgadas de silicio microcristalino y polimorfo, depositadas por la técnica PECVD, para aplicaciones en celdas solares

Abstract

"La electricidad generada por medio de la conversión de la energía solar, es considerada como una de las fuentes alternas más prometedoras y limpias que puede sustituir el uso de combustibles fósiles, por lo que su estudio y desarrollo se ha vuelto un tema de gran interés en años recientes. Las celdas solares de película delgada presentan bajos costos de producción debido a que éstas pueden ser depositadas sobre vidrios, láminas metálicas o plásticos flexibles utilizando una cantidad mínima de material para la formación de la película. En este contexto tenemos al silicio amorfo hidrogenado (a-Si:H), silicio microcristalino (µc-Si:H) y silicio polimorfo (pm-Si:H), los cuales son semiconductores de gran interés en la industria fotovoltaica, porque pueden depositarse en forma de película delgada de bajo costo y producción masiva. El método de depósito PECVD ha sido una de las técnicas más utilizadas para la producción de a-Si:H, µc-Si:H y pm-Si: H. Presentando ventajas en comparación con otras técnicas como lo son depósitos en áreas grandes (>1m2), temperaturas de depósito bajas (<300°C) y su uso generalizado en el campo de la electrónica, donde ha demostrado su fiabilidad y reproducibilidad".