| dc.contributor | Tentardini, Eduardo Kirinus | |
| dc.creator | Soares, Vagner Fontes Gonçalves | |
| dc.date | 2021-11-18T20:57:35Z | |
| dc.date | 2021-11-18T20:57:35Z | |
| dc.date | 2020-07-29 | |
| dc.date.accessioned | 2023-09-28T23:08:39Z | |
| dc.date.available | 2023-09-28T23:08:39Z | |
| dc.identifier | SOARES, Vagner Fontes Gonçalves. Deposição de filmes finos tipo multicamadas cr/tin com diferentes arquiteturas e estudo de estrutura, propriedades tribológicas, resistência à oxidação e à corrosão. 2020. 110 f. Tese (Doutorado em Ciência e Engenharia de Materiais) - Universidade Federal de Sergipe, São Cristóvão, SE, 2020. | |
| dc.identifier | https://ri.ufs.br/jspui/handle/riufs/14755 | |
| dc.identifier.uri | https://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/9085177 | |
| dc.description | Iso and non-iso architected Cr/TiN multilayers thin films with constant thickness and composition were deposited by magnetron sputtering aiming to study the influence of different architectures over coatings structures and properties. Glow-discharge optical emission spectroscopy (GD-OES) and scanning electron microscopy with field emission gun (SEM-FEG) analyses showed that all multilayers presented sharp interfaces and dense nanostructures, with columnar growth tendency and grain sizes varying according to layer thickness. Grazing Incidence X-Ray Diffraction (GAXRD) analyses showed that multilayers consist of polycrystalline α-Cr and δ-TiN phases with a preferential growth in Cr(110) plane. The overlapping of TiN onto metallic layers leads to a high amorphization degree of its structure, although TiN layers thicker than 50 nm demonstrated increased crystallinity in plane TiN(200). Nanohardness tests registered hardness values for all multilayers of around 16.2 GPa, evidencing that different distribution order of layers did not significantly influence this property. The low values of H/E noted in 0.08 indicate that all multilayers suffer nanoplastic deformations, being adequate only for non-contact or low intensity applications. Oxidation tests revealed the iso-structured architecture thin film presented an improved oxidation resistance due to a balance between Cr amount and TiN layers with modarate crystallinity at the upper period. Corrosion tests highlighted the graduated architecture with increasing amount of Cr towards the surface as the most suitable to optimize the corrosion resistance. | |
| dc.description | Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior - CAPES | |
| dc.description | Filmes finos do tipo multicamadas Cr/TiN iso e não iso-estruturadas com espessura e composição constantes foram depositados por magnetron sputtering com o objetivo de estudar a influência de diferentes arquiteturas nas estruturas e propriedades dos revestimentos. Análises de espectroscopia de emissão óptica por descarga luminescente (GD-OES) e microscopia eletrônica de varredura com emissão de campo (MEV-FEG) mostraram que todas as multicamadas apresentaram interfaces uniformes e nanoestruturas densas, com tendência de crescimento colunar e tamanhos de grão variando de acordo com a espessura da camada. Análises de difração de raios X com ângulo rasante (GAXRD) mostraram que as multicamadas consistem em fases policristalinas de α-Cr e δ-TiN, com crescimento preferencial no plano Cr(110). A sobreposição de TiN nas camadas metálicas de Cr levou a um alto grau de amorfização da estrutura δ-TiN, embora camadas de TiN mais espessas que 50 nm tenham demonstrado aumento de cristalinidade no plano TiN(200). Testes de nanodureza registraram valores de dureza para todas as multicamadas em torno de 16,2 GPa, evidenciando que diferentes ordens de distribuição das camadas não influenciaram significativamente essa propriedade. Baixos valores para o fator H/E, notados em 0,08, indicaram que as multicamadas tendem a sofrer deformações nanoplásticas, sendo adequadas apenas para aplicações sem contato ou de baixa intensidade. Testes de oxidação revelaram que o filme fino com arquitetura iso-estruturada apresentou maior resistência à oxidação devido ao equilíbrio entre a quantidade de cromo e a camada de TiN com certo grau de cristalinidade no período de topo. Ensaios de corrosão destacaram a arquitetura graduada com aumento da quantidade de Cr em direção à superfície e a isoestruturada como as mais adequadas para otimizar a resistência à corrosão. | |
| dc.description | São Cristóvão, SE | |
| dc.format | application/pdf | |
| dc.language | por | |
| dc.publisher | Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais | |
| dc.publisher | Universidade Federal de Sergipe | |
| dc.subject | Engenharia de materiais | |
| dc.subject | Compostos de cromo | |
| dc.subject | Oxidação | |
| dc.subject | Filmes finos | |
| dc.subject | Corrosão | |
| dc.subject | Cr/TiN multilayers | |
| dc.subject | Nanohardness | |
| dc.subject | High temperature oxidation | |
| dc.subject | Magnetron sputtering | |
| dc.subject | ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA | |
| dc.title | Deposição de filmes finos tipo multicamadas Cr/TiN com diferentes arquiteturas e estudo de estrutura, propriedades tribológicas, resistência à oxidação e à corrosão | |
| dc.type | Tese | |
