Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão

Development of materials for reflection photoelasticity

dc.contributorGomide, Henner Alberto
dc.contributorhttp://lattes.cnpq.br/4609718752173134
dc.contributorSmith Neto, Perrin
dc.contributorBack, Nelson
dc.contributorCullen, João Amos Toledo
dc.creatorOliveira, Sonia Aparecida Goulart de
dc.date2019-08-26T19:18:51Z
dc.date2019-08-26T19:18:51Z
dc.date1988
dc.date.accessioned2023-09-28T21:19:11Z
dc.date.available2023-09-28T21:19:11Z
dc.identifierOLIVEIRA,Sonia Aparecida Goulart de. Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão. 1988. 93 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Mecânica) – 1988. 93 f. Dissertação (Mestrado em História) - Universidade Federal de Uberlândia, Uberlândia, 2018. Disponível em: http://dx.doi.org/10.14393/ufu.di.1988.1
dc.identifierhttps://repositorio.ufu.br/handle/123456789/26815
dc.identifierhttp://dx.doi.org/10.14393/ufu.di.1988.1
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/9067765
dc.descriptionThis work deal with the development of a material for the photoelastic coating technique, using Brazilian raw materiais. This technique has not been largely used in Brazil owing to difficulties with the importantion of the photoelastic materiais. To obtain the materiais it was used four kinds of epoxy resins and four kinds of amines curing agents as a hardener, all produced by CIBA GEIGY - Química S.A. do Brazil. By the combination of the basic components in different amount, sev- eral composition were obtained. Amoung these, the two ones that showed the best properties for photoelastic coating were chosen. This work describes interily the procedure used to obtain the materiais, the determination of the properties required to ap- ply the technique and shows the general application. During the development of this work, it was also obtained and presented in a particular chapter a new material for bidimensional photo- elasticity, with properties similar to the imported materiais.
dc.descriptionDissertação (Mestrado)
dc.description0 objetivo deste trabalho é o desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão, usando matéria prima nacional. Esta técnica tem sido pouco usada no Brasil devido a pro blemas de importação. Para a obtenção destes materiais, usou- se quatro tipos de resina epoxi e quatro tipos de endurecedo- res à base de aminas, todos produzidos pela CIBA GEIGY - Quími ca S.A. do Brasil. Combinando os componentes básicos em propor ções variadas obteve-se várias composições, das quais foram se lecionadas as duas melhores, baseado nas propriedades requeri- / das para uso do material em fotoelasticidade de reflexão. Ne_s te trabalho é descrito o procedimento de obtenção e utilização dos materiais, bem como a determinação das propriedades necessárias para o estudo das tensões/deformações usando a técnica da fotoelasticidade de reflexão. A partir da proposta inicial do trabalho, chegou-se também a um material para uso em fotoelasticidade de transmissão bidimensional, com características similares aos materiais importados.
dc.formatapplication/pdf
dc.languagepor
dc.publisherUniversidade Federal de Uberlândia
dc.publisherBrasil
dc.publisherPrograma de Pós-graduação em Engenharia Mecânica
dc.rightsAcesso Aberto
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/
dc.subjectFotoelasticidade de reflexão
dc.subjectMateriais fotoelãsticos
dc.subjectAnálise de tensões
dc.subjectFotoelasticidade bidimensional
dc.subjectPhotoelastic coating
dc.subjectPhotoelastic materiais
dc.subjectStress/strain analysis
dc.subjectBidimensional photoelasticíty
dc.subjectDeformacões
dc.subjectCNPQ::ENGENHARIAS
dc.titleDesenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão
dc.titleDevelopment of materials for reflection photoelasticity
dc.typeDissertação


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