Aluminum Alloys are widely used as structural materials in the aerospace industry due to low weight, high mechanical strength and enduring corrosion resistance. Their resistance to corrosion is attributed to the rapidly formed stable oxide film (Al2O3) which spontaneously forms itself on the surface of the material. However, in the presence of aggressive ions, such as halide, Aluminum Alloys are subject to a localized process of corrosion. The electrochemical behavior of 7081-T73511 and 7050-T7451 Aluminum Alloys employed in the aerospace industry was investigated using a 0.6 M NaCl solution under the conditions of a controlled mass transport employing a rotating disk electrode. The theoretical limiting current density was determined by the Kouteki-Levich equation. The results confirmed that the inter-metallic Al7Cu2Fe acts as preferential cathode generating the galvanic coupling and the dissolution of the Aluminummatrix around it.Las aleaciones de Aluminio (Al) son ampliamente utilizadas en la industria aeronáutica, debido a su baja densidad, alta resistência mecánica y gran resistencia a la corrosión. Su resistencia a la corrosiónse atribuyea la película de óxido (Al2O3) que se forma espontáneamente en la superficie del material. Sin embrago, en presencia de iones agresivos, las aleaciones de Al estánsujeta a procesos de corrosión localizada. El comportamiento electroquímico de las aleacionesAA7050-T7451 y AA7081-T73511 utilizadas por la industria aeronáutica fue investigado bajo lascondiciones de transporte masivo controlado a través de un electrodo cilíndrico giratorio enel interior de una solución de 0,6 M NaCl. La densidad de la corriente eléctrica fue determinada a través de a ecuación de Kouteki –Levich. Los resultados obtenidos confirman que el intermetálico Al7Cu2Feactúacomo cátodo preferente, provocando el par galvánicoy la disolución de la matriz de Al a su alrededo.As ligas de Alumínio (Al) são largamente utilizadas pela indústria aeronáutica, devido à sua baixa densidade, alta resistência mecânica e boa resistência à corrosão. A sua resistência à corrosão é atribuída à película de óxido (Al2O3) que se forma espontaneamente na superfície do material. No entanto, na presença de íons agressivos, as ligas de Al estão sujeitas ao processo de corrosão localizada. O comportamento eletroquímico das ligas AA7050-T7451 e AA7081-T73511 utilizadas pela indústria aeronáutica foi investigado sob as condições de transporte de massa controlado através de um eletrodo cilíndrico rotatório em meio de uma solução de 0,6 M NaCl. A densidade de corrente teórica foi determinada através da equação de Kouteki –Levich. Os resultados confirmam que o intermetálico Al7Cu2Fe atua como cátodo preferencial causando o acoplamento galvânico e a dissolução da matriz de Al em torno dele.Universidade de São Paulo, Departamento de Engenharia de Materiaisnstituto Superior Técnico de Lisboa, Departamento de Engenharia QuímicaUniversidade Estadual Paulista, Departamento de Física, Faculdade de Ciências de Bauru