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Evaluación y Caracterización de la Nucleación y Crecimiento de Paladio Sobre Aluminio Mediante Electrodeposición Pulsada con Previa Oxidación
Autor
Sebastian Arcila, Juan
Gómez Peña, Álvaro
Institución
Resumen
En esta investigación se estudió la dinámica de nucleación y crecimiento de Paladio sobre aluminio. El empleo de la técnica de voltametría cíclica, permitió encontrar la zona donde la reacción de reducción de paladio ocurre. Posteriormente se estudiaron las corrientes catódicas bajo condiciones potenciostáticas en términos de modelos teóricos de nucleación difusional, basados en procesos transitorios como los establecidos por Sluyter [J. Electroanal. Chem. 177 (1984) 13], Heerman and Tarallo [J. Electroanal. Chem. 470 (1999) 70]. Encontrando los parámetros de nucleación como coeficientes de Difusión de los Iones paladio (DPd), la constante de velocidad de nucleación (), y el número de sitios Activos sobre el aluminio. Se caracterizó morfologícamente mediante técnicas instrumentales de Microscopia electrónica de Barrido (MEB) y EDX, el proceso de nucleación de paladio mediante electrodeposición pulsada bajo crecimiento lento, con previa oxidación.