dc.contributorVidal Borbolla, Miguel Ángel
dc.contributorLópez Luna, Edgar
dc.creatorHernandez Arriaga, Heber
dc.date2020-07-22T19:51:46Z
dc.date2020-07-22T19:51:46Z
dc.date2017
dc.date.accessioned2023-07-17T20:29:38Z
dc.date.available2023-07-17T20:29:38Z
dc.identifierhttps://repositorioinstitucional.uaslp.mx/xmlui/handle/i/5783
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/7516109
dc.descriptionGrupos de la comunidad
dc.descriptionInvestigadores
dc.descriptionEstudiantes
dc.formatapplication/pdf
dc.formatapplication/pdf
dc.languageEspañol
dc.relationFacultad de Ciencias
dc.rightsAcceso Abierto
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.subjectnanolaminados
dc.subjectCIENCIAS FÍSICO MATEMATICAS Y CIENCIAS DE LA TIERRA
dc.subjectINGENIERÍA Y TECNOLOGÍA
dc.titleCrecimiento de nanolaminados de HfO2/TiO2 por depósito de capas atómicas y HfO2-TiO2 por depósito parcial de capas atómicas
dc.typeTesis de doctorado
dc.coverageMéxico. San Luis Potosí. San Luis Potosí


Este ítem pertenece a la siguiente institución