Sistema para el depósito de películas delgadas semiconductoras mediante Spray Pyrolysis

Abstract

En este proyecto se presenta la construcción de un sistema mecatrónico para el depósito de películas delgadas semiconductoras mediante el método de spray pirolisis este método se ha automatizado para un mejor resultado de crecimiento, así como la repetibilidad confiable de las mismas muestras antes crecidas. El proceso consiste en depositar una solución atomizada sobre una superficie con temperatura controlada a fin de obtener una reacción que permita la mejora o cambios en las características y propiedades de los sustratos, para dar paso a una gran variedad de aplicaciones en Leds y en sensores. Para la construcción de este proyecto se buscó que sea de bajo costo y de fabricación nacional o con diseño propio.