Influencia de los precursores de silicio : Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(OCH3)3CH3, en la distribucion del tamaño de poro de solidos SiO2-Al2O3-TiO2 Y SiO2-ZrO2-TiO2

dc.contributorMendoza Serna, Roberto
dc.creatorParedes Godinez, Cesar
dc.creatorVelasco Huitron, Esmeralda
dc.date.accessioned2023-06-25T01:31:09Z
dc.date.available2023-06-25T01:31:09Z
dc.date.issued2007
dc.identifierhttps://ru.dgb.unam.mx/handle/DGB_UNAM/TES01000625760
dc.identifierhttps://tesiunam.dgb.unam.mx/F?func=direct&current_base=TES01&doc_number=000625760
dc.identifier001-50521-P3-2007
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/6914266
dc.languagespa
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.rightsAcceso en línea sin restricciones
dc.subjectÓxido de aluminio
dc.titleInfluencia de los precursores de silicio : Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(OCH3)3CH3, en la distribucion del tamaño de poro de solidos SiO2-Al2O3-TiO2 Y SiO2-ZrO2-TiO2
dc.typeTesis de licenciatura
dc.typepublishedVersion


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