Desarrollo de mascaras para litografía a partir de monocapas de partículas coloidales de sílice

dc.contributorCheang Wong, Juan Carlos
dc.creatorReséndiz López, Eder
dc.date.accessioned2023-06-22T13:28:03Z
dc.date.available2023-06-22T13:28:03Z
dc.date.issued2011
dc.identifierhttps://ru.dgb.unam.mx/handle/DGB_UNAM/TES01000669858
dc.identifierhttps://tesiunam.dgb.unam.mx/F?func=direct&current_base=TES01&doc_number=000669858
dc.identifier001-00347-R2-2011
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/6754769
dc.languagespa
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.rightsAcceso en línea sin restricciones
dc.titleDesarrollo de mascaras para litografía a partir de monocapas de partículas coloidales de sílice
dc.typeTesis de maestría
dc.typepublishedVersion


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