Enabling Solutions for 28nm CMOS Advanced Junction Formation

dc.creatorLi, C.I.
dc.creatorKuo, P.
dc.creatorLai, H.H.
dc.creatorMa, K.
dc.creatorLiu, R.
dc.creatorWu, H.H.
dc.creatorChan, M.
dc.creatorYang, C.L.
dc.creatorWu, J.Y.
dc.creatorArévalo, Edward
dc.creatorGuo, B.N.
dc.creatorColombeau, B.
dc.creatorThirumal, T.
dc.creatorToh, T.
dc.creatorShim, K.H.
dc.creatorSun, H.L.
dc.creatorWu, T.
dc.creatorLu, S.
dc.date.accessioned2021-04-07T14:35:31Z
dc.date.available2021-04-07T14:35:31Z
dc.date.created2021-04-07T14:35:31Z
dc.date.issued2010
dc.identifier0094-243X
dc.identifierhttps://repositorio.uc.cl/handle/11534/57343
dc.identifierWOS:000288402500009
dc.languageen
dc.rightsacceso restringido
dc.titleEnabling Solutions for 28nm CMOS Advanced Junction Formation
dc.typecomunicación de congreso


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