dc.creatorLi, C.I.
dc.creatorKuo, P.
dc.creatorLai, H.H.
dc.creatorMa, K.
dc.creatorLiu, R.
dc.creatorWu, H.H.
dc.creatorChan, M.
dc.creatorYang, C.L.
dc.creatorWu, J.Y.
dc.creatorArévalo, Edward
dc.creatorGuo, B.N.
dc.creatorColombeau, B.
dc.creatorThirumal, T.
dc.creatorToh, T.
dc.creatorShim, K.H.
dc.creatorSun, H.L.
dc.creatorWu, T.
dc.creatorLu, S.
dc.date.accessioned2021-04-07T14:35:31Z
dc.date.available2021-04-07T14:35:31Z
dc.date.created2021-04-07T14:35:31Z
dc.date.issued2010
dc.identifier0094-243X
dc.identifierhttps://repositorio.uc.cl/handle/11534/57343
dc.identifierWOS:000288402500009
dc.languageen
dc.rightsacceso restringido
dc.titleEnabling Solutions for 28nm CMOS Advanced Junction Formation
dc.typecomunicación de congreso


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