dc.contributorMuñoz A., Raúl
dc.creatorArenas Andrade, Claudio Fernando
dc.date.accessioned2022-11-24T20:16:04Z
dc.date.accessioned2023-05-19T00:22:23Z
dc.date.available2022-11-24T20:16:04Z
dc.date.available2023-05-19T00:22:23Z
dc.date.created2022-11-24T20:16:04Z
dc.date.issued2009
dc.identifierhttps://repositorio.uchile.cl/handle/2250/189364
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/6297305
dc.languagees
dc.publisherUniversidad de Chile
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/
dc.rightsAttribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 United States
dc.subjectPelículas metálicas
dc.subjectDispersión de electrones
dc.subjectElectrones de metal
dc.titleResistividad de películas metálicas delgadas inducida por colisión electrón-superficie rugosa y colisión electrón-bordes de grano
dc.typeTesis


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