Influencia de la temperatura de síntesis sobre la estructura cristalina y rugosidad de películas delgadas de MoN preparadas por pulverización magnética con corriente continua

Abstract

Las películas delgadas de molibdeno (Mo) y Nitruro de Molibdeno (Mo2N) tienen propiedades como alto punto de fusión, alta conductividad, buena estabilidad química y alta dureza. Debido a sus notables propiedades son de gran uso en microelectrónica, y celdas solares. El objetivo de estudio fue determinar el efecto de la temperatura de síntesis sobre la estructura cristalina y la rugosidad de las películas delgadas de nitruro de molibdeno. Las películas de Molibdeno y Nitruro de Molibdeno se depositaron en sustratos de silicio de dirección preferencial (111) tipo n mediante la técnica de pulverización magnética reactiva con corriente directa. Para lo cual se hizo un pre vacío y luego alto vacío, se agregó el gas Argón, se aplicó un voltaje DC y luego el gas Nitrógeno con ciertos parámetros de presión, el blanco fue molibdeno de alta pureza y se obtuvieron películas a diferentes temperaturas durante el tiempo de 10 minutos. Para saber la estructura cristalina de las películas delgadas se utilizó un difractómetro de rayos X y para determinar la rugosidad un microscopio de fuerza atómica. Observándose que la estructura cristalina no cambia al aumentar la temperatura, la rugosidad de las películas de nitruro de molibdeno disminuye de 1.093 nm a 0.602 nm conforme aumento la temperatura. Se obtuvieron películas de Mo2N, donde la estructura cristalina no cambia y la rugosidad disminuyó conforme la temperatura aumenta