Los nitruros de metales magnéticos han tomado gran importancia debido a sus potenciales aplicaciones tecnológicas. En este trabajo se han depositado capas delgadas de Nitruro de Cobalto usando la técnica de ablación láser pulsado reactivo en ambiente de nitrógeno. Se han usado sustratos de silicio a temperatura ambiente. Las capas resultantes se caracterizaron in situ por espectroscopias Auger, de foto-emisión de rayos X y de pérdida de energía. El enlace químico y la estequiometría están fuertemente correlacionados, y ambos son controlados simultáneamente por la presión durante el deposito. Concluimos que este método de síntesis permite tener un control muy fino de las propiedades de capas delgadas de Nitruro de Cobalto.The nitrides of magnetic metal are becoming important due to their potential technological applications. In this work cobalt nitride thin films are deposited by reactive pulsed laser deposition (nitrogen environments) on silicon substrates at room temperature. The resultant films are characterized in-situ by Auger, X-Ray Photoelectron and Electron Energy Loss Spectroscopies. The chemical bond of the CoNx is strongly linked to the stoichiometry, and it can be controlled by the N background pressure. We conclude that this deposition method offers a means for fine-tuning the properties of cobalt nitride.