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Mostrando ítems 1-10 de 231
Análise da deposição de filmes finos semicondutores de GaN e GaN e Ga1-xMnxN preparados por sputtering reativo
(Universidade Estadual Paulista (UNESP), 2015)
Propriedades químicas e ópticas de filmes de carbono amorfo halogenados produzidos por deposição a vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (DIIIP)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2013-08-09)
Neste trabalho, filmes finos amorfos de carbono hidrogenado também contendo bromo foram produzidos por duas técnicas: Deposição e Implantação iônica por Imersão em Plasma (DIII). As deposições foram feitas em plasmas ...
Propriedades químicas e ópticas de filmes de carbono amorfo halogenados produzidos por deposição a vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (DIIIP)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2013-08-09)
Neste trabalho, filmes finos amorfos de carbono hidrogenado também contendo bromo foram produzidos por duas técnicas: Deposição e Implantação iônica por Imersão em Plasma (DIII). As deposições foram feitas em plasmas ...
Influência da temperatura e composição dos gases no recobrimento de fibras de carbono com etanol
(Universidade Federal de São Paulo, 2022-02-03)
O método de infiltração química em fase vapor (CVI – Chemical Vapor Infiltration) é uma variante da técnica de deposição química em fase vapor (CVD – Chemical Vapor Deposition) e foi desenvolvida em 1960 para a produzir ...
Propriedades estruturais e ópticas de filmes finos a-C:H:CI obtidos por deposição à vapor químico assistido por plasma e deposição e implantação iônica por imersão em plasma
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2011-12-16)
Foram produzidos filmes finos amorfos hidrogenado com incorporação de cloro por duas técnicas: (i) Deposição à Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) e (ii) Implantação Iônica e Deposição por Imersão em Plasma (PIIID). ...
Propriedades estruturais e ópticas de filmes finos a-C:H:CI obtidos por deposição à vapor químico assistido por plasma e deposição e implantação iônica por imersão em plasma
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2011-12-16)
Foram produzidos filmes finos amorfos hidrogenado com incorporação de cloro por duas técnicas: (i) Deposição à Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) e (ii) Implantação Iônica e Deposição por Imersão em Plasma (PIIID). ...