Crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica

Growth of thin nickel oxide films by pyrolytic nebulization

dc.creatorSequeira, Karen Melanie
dc.creatorSuárez, Gustavo
dc.creatorTejerina, Matías Rubén
dc.date2023-06
dc.date2023-09-11T18:27:30Z
dc.date.accessioned2024-07-24T03:54:47Z
dc.date.available2024-07-24T03:54:47Z
dc.identifierhttp://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/157496
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/9535643
dc.descriptionEl óxido de níquel (NiO) tiene una excelente estabilidad química y muestra conductividad tipo p debido a vacantes de Ni y/o intersticiales de O. Por esto, las películas delgadas de este material tienen una gran aplicabilidad tecnológica, como por ejemplo en sensores de gases, en celdas de combustible y en ventanas inteligentes, entre otras. La técnica de nebulización pirolítica permite fabricar con bajo costo estos materiales. La preparación de la solución a nebulizar determina las características del material a obtener y uno de los aspectos importante a tener en cuenta en este proceso es el tiempo de envejecimiento de esta solución[2]. En este trabajo, se presenta una caracterización de recubrimientos de NiO fabricados a partir de soluciones con distinto tiempo de envejecimiento.
dc.descriptionFacultad de Ciencias Agrarias y Forestales
dc.formatapplication/pdf
dc.format57-57
dc.languagees
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
dc.rightsCreative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International (CC BY-NC-SA 4.0)
dc.subjectCiencias Exactas
dc.subjectsemiconductores de capa delgada
dc.subjectenvejecimiento de solución
dc.subjectthin-film semiconductors
dc.subjectsolution ageing
dc.titleCrecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica
dc.titleGrowth of thin nickel oxide films by pyrolytic nebulization
dc.typeArticulo
dc.typeComunicacion


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