Caracteriza????o de filmes finos de ??xidos de ni??bio obtidos por sputtering reativo

dc.creatorSCHEIDT, G.S
dc.creatorSILVA JUNIOR, O.P.V.
dc.creatorARAUJO, E.G.
dc.creatorPILLIS, M.F.
dc.creatorCONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CI??NCIA DOS MATERIAIS, 21.
dc.date2015-02-09T11:55:56Z
dc.date2015-04-02T03:34:13Z
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dc.date2015-04-02T03:34:13Z
dc.date9-13 de novembro, 2014
dc.date.accessioned2023-09-28T13:14:16Z
dc.date.available2023-09-28T13:14:16Z
dc.identifierhttp://repositorio.ipen.br/handle/123456789/23468
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/8991697
dc.format795-802
dc.rightsopenAccess
dc.subjectthin films
dc.subjectniobium oxides
dc.subjectsputtering
dc.subjectrefractive index
dc.subjectoptical properties
dc.subjectchemical properties
dc.subjectcorrosion resistance
dc.subjectsilicon
dc.subjectboron silicates
dc.subjectellipsometry
dc.subjectrutherford scattering
dc.titleCaracteriza????o de filmes finos de ??xidos de ni??bio obtidos por sputtering reativo
dc.typeTexto completo de evento
dc.coverageN


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