Estudo da rugosidade de filmes finos de CdTE crescidos sobre vidro e Si (111) por epitaxia de paredes quentes (HWE)

Study of CdTe thin films roughness grown on glass and Si (111) by hot wall epitaxy (HWE)

dc.contributorFerreira, Sukarno Olavo
dc.contributorhttp://lattes.cnpq.br/3237123277587500
dc.contributorMenezes Sobrinho, Ismael Lima
dc.contributorMoreira, Helder Soares
dc.creatorLeal, Fábio Fagundes
dc.date2017-02-17T11:19:41Z
dc.date2017-02-17T11:19:41Z
dc.date2005-03-05
dc.date.accessioned2023-09-27T21:46:41Z
dc.date.available2023-09-27T21:46:41Z
dc.identifierLEAL, Fábio Fagundes. Estudo da rugosidade de filmes finos de CdTE crescidos sobre vidro e Si (111) por epitaxia de paredes quentes (HWE). 2005. 64 f. Dissertação (Mestrado em Física Aplicada) - Universidade Federal de Viçosa, Viçosa. 2005.
dc.identifierhttp://www.locus.ufv.br/handle/123456789/9557
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/8965992
dc.descriptionFilmes de telureto de cádmio foram crescidos sobre vidro e silício pela técnica de epitaxia de paredes quentes. As amostras obtidas são policristalinas com orientação preferencial (111). Microscopia de varredura eletrônica revela grãos com tamanhos entre 0.1 e 0.5 μm. O tamanho dos grãos das amostras crescidas sobre Si não foi determinado. A morfologia da superfície das amostras foi estudada a partir da análise de perfis de rugosidade usando um perfilômetro e um microscópio de força atômica. A rugosidade em função do tempo de crescimento e da escala foi investigada para determinar os expoentes de crescimento e de Hurst, e H, respectivamente. A partir dos resultados podemos concluir que para as amostras crescidas sobre vidro, o crescimento da superfície tem um caráter auto-afim com um expoente H igual a 0.69 ± 0.03, aproximadamente independente do tempo de crescimento. O expoente de crescimento é igual a 0.38 ± 0.06. Esses valores são os mesmos determinados previamente para filmes de CdTe (111) crescidos sobre GaAs (100) por deposição química de vapores organo-metálicos (MOCVD). Não foi possível a determinação desses expoentes para amostras crescidas sobre os substratos de Si.
dc.descriptionCadmium telluride films were grown on glass and silicon substrates using hot wall epitaxy (HWE) technique. The samples were polycrystalline with a preferential (111) orientation. Scanning electron micrographs reveal a grain size between 0.1 and 0.5 μm for the samples on glass. The grain size from the samples grown on Si were not determined The surface morphology of the samples was studied by measuring the roughness profile obtained using a stylus profiler for the samples on glass and atomic force microscopy for the samples on Si. The roughness as a function of growth time and scale size were investigated to determine the growth and Hurst exponents, and H, respectively. From the results we can conclude that for the samples on glass the growth surface has a self-affine character with a roughness exponent H equal to 0.69 ± 0.03 and almost independent of growth time. The growth exponent was equal to 0.38 ± 0.06. These values agree with that determined previously for CdTe (111) films grown on GaAs (100) by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD). It was not possible to determine that exponents for the samples grown on Si substrates.
dc.descriptionCoordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior, CAPES, Brasil
dc.formatapplication/pdf
dc.languagepor
dc.publisherUniversidade Federal de Viçosa
dc.rightsAcesso Aberto
dc.subjectEpitaxia
dc.subjectFilmes finos
dc.subjectFísica estatística
dc.subjectSimulação computacional
dc.subjectPontos quânticos
dc.subjectCiências Exatas e da Terra
dc.titleEstudo da rugosidade de filmes finos de CdTE crescidos sobre vidro e Si (111) por epitaxia de paredes quentes (HWE)
dc.titleStudy of CdTe thin films roughness grown on glass and Si (111) by hot wall epitaxy (HWE)
dc.typeDissertação


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