Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B

dc.creatorDomingos, Nathalia Bastos
dc.creatorMorais, Camila Raissa Rodrigues de
dc.creatorNicacio, José Vitor
dc.creatorTôrres, André Gomes
dc.date2017-11-28T09:49:05Z
dc.date2017-11-28T09:49:05Z
dc.date2017-03-03
dc.date.accessioned2023-09-27T20:53:07Z
dc.date.available2023-09-27T20:53:07Z
dc.identifier25271075
dc.identifierhttps://doi.org/10.18540/2446941603032017476
dc.identifierhttp://www.locus.ufv.br/handle/123456789/13849
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/8950116
dc.descriptionO controle PID (proporcional, integral e derivativo) é importante para assegurar a padronização e segurança de diversos processos químicos de uma indústria, assim como a qualidade de seus produtos. Este trabalho foi realizado no tanque de aquecimento da planta didática Smar PD3 com a sintonia do controlador PI (proporcional e integral) e a análise de estabilidade do sistema de controle. De posse das funções de transferência do tanque de aquecimento, para as vazões de 200, 400, 600 e 1000 L.h^-1 , foi realizada a sintonia do controlador PI para a vazão de 600 L.h^-1 e posterior validação do controle experimentalmente na planta, que mostrou resultados satisfatórios. Para as outras vazões foram utilizados os mesmos parâmetros do controlador encontrados para a vazão de 600 L.h^-1 , sendo então calculadas as raízes empregando algoritmo descrito em Matlab®, o que comprovou a validade do controle para todas as vazões estudadas.
dc.formatpdf
dc.formatapplication/pdf
dc.languagepor
dc.publisherThe Journal of Engineering and Exact Sciences
dc.relationv. 03, n. 03, p. 476-498, Março 2017
dc.rightsOpen Access
dc.subjectProcessos químicos
dc.subjectControlador PI
dc.subjectEstabilidade
dc.titlePlanta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
dc.typeArtigo


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