| dc.contributor | Souza, Jair Fernandes de | |
| dc.contributor | http://lattes.cnpq.br/3907353314468789 | |
| dc.contributor | Souza, Jair Fernandes de | |
| dc.contributor | Lima, Roberto Rodrigues Cunha | |
| dc.contributor | Nascimento, Pedro Ivo de Ara?jo do | |
| dc.creator | Silva, Gabriela Tabita da | |
| dc.date | 2018-11-19T13:48:58Z | |
| dc.date | 2018-11-19T13:48:58Z | |
| dc.date | 2018-04-03 | |
| dc.date.accessioned | 2023-09-27T14:20:21Z | |
| dc.date.available | 2023-09-27T14:20:21Z | |
| dc.identifier | SILVA, Gabriela Tabita da; DUARTE, Luciana Mirelly Gomes. FUV: foto expositora ultravioleta para produ??o de placas de circuito impresso. 2017. 111f. Trabalho de Conclus?o de Curso (T?cnico em Eletr?nica) ? Instituto Federal de Educa??o, Ci?ncia e Tecnologia do Rio Grande do Norte, Natal, 2017. | |
| dc.identifier | http://memoria.ifrn.edu.br/handle/1044/1578 | |
| dc.identifier.uri | https://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/8921110 | |
| dc.description | No ?mbito da eletr?nica e nos campos de estudos acad?micos atrelados a ela, a produ??o de placas de circuitos impressos, conhecidas como PCIs, ? inegavelmente uma grande necessidade. Com isso, se faz necess?rio a obten??o de aparatos que possibilitem a confec??o das PCIs com um maior rigor e qualidade, tendo em vista que o investimento em mecanismos de pesquisa oportuniza o fomento das atividades. Tais constata??es levaram ao desenvolvimento do projeto FUV, cujo objetivo foi desenvolver um equipamento semi-autom?tico para a realiza??o da etapa de transfer?ncia de layouts ? placa atrav?s da t?cnica de fotolitografia - fotoexposi??o a radia??o ultravioleta (UV), de modo a oferecer funcionalidade e otimiza??o no desenvolvimento de projetos de ensino e pesquisa no ?mbito do IFRN. Este trabalho divide-se em duas grandes partes: O algoritmo, parte fundamental do equipamento e que refere-se ao c?digo respons?vel pelo controle do sistema, e o hardware que, por sua vez, ? subdividido em tr?s pequenas partes: Os recursos relacionados a ilumina??o e sua manuten??o, o recurso de controle e os elementos de interface com o usu?rio. Ap?s produzido, o sistema apresentou excelentes resultados, demonstrando ?xito tanto no funcionamento eletroeletr?nico como um todo quanto na confec??o das PCIs. Nesse ponto em espec?fico, diante dos testes executados, o equipamento mostrou-se apto a confec??o de placas single side e double side, permitindo a fabrica??o de trilhas com espessura m?nima de 0,203 mm, evidenciando consequentemente sua utilidade na execu??o de projetos de sistemas eletr?nicos com dimens?es f?sicas reduzidas, permitindo inclusive o desenvolvimento de placas com tecnologia de montagem em superf?cie (SMT), entre outras possibilidades de uso. Trazendo assim, um saldo indiscutivelmente positivo em rela??o ?quilo que foi proposto.
Palavras-chave: Placa de Circuito Impresso. Fotolitografia. Fotoexposi??o. Impress?o UV. | |
| dc.language | por | |
| dc.publisher | Instituto Federal de Educa??o, Ci?ncia e Tecnologia do Rio Grande do Norte | |
| dc.publisher | Brasil | |
| dc.publisher | Natal - Zona Norte | |
| dc.publisher | IFRN | |
| dc.rights | Acesso Aberto | |
| dc.subject | Placa de circuito impresso | |
| dc.subject | Fotolitografia | |
| dc.subject | Fotoexposi??o | |
| dc.subject | Impress?o UV | |
| dc.subject | CNPQ::ENGENHARIAS | |
| dc.title | FUV: foto expositora ultravioleta para produ??o de placas de circuito impresso | |
| dc.type | Trabalho de Conclus?o de Curso | |
