| dc.description | Carbono é capazde formar estruturas versáteis e com bom desempenho tribológico sob a forma de filmes finos. No entanto, tensões internas provocam, muitas vezes, a fragmentação desses filmes uma vez que são geralmente frágeis. A deposição combinada destes com compostos organosiliconados, como o HMDSO, pode ser a chave para a produção de filmes menos frágeis, em função do seu caráter orgânico exibido por esta classe de substâncias.Quatro substratos de cobre foram recobertos por PECVD de HMDSO emum reator de descarga luminescente. Três delesforam subsequentemente revestidos por sputteringde carbono grafite por 5, 10 e 15 minutos. Um quinto e último substrato recebeu deposição intercalada de 4 minutos: quatro deposições por sputteringde carbono entre cinco deposições químicas de HMDSO. Todos os filmes foram produzidos no catodo. Este trabalho teve por objetivo observar os domínios estruturais formados, o caráter químico e analisar se houve diminuição da dureza e consequentemente da fragilidade dos filmes. Os filmes foram caracterizados por AFM, Raman e FTIR e teve propriedades mecânicas (módulo elástico e nanodureza) medidas por ensaio de carga e descarga e nanoidentação e também a molhabilidade causada por água e diiodometano em sua superfície foi avaliada. Quimicamente composto de grupos ligados a compostos orgânicos, os filmes apresentaram valores de ângulo de contato satisfatórios em relação à água (~100°), porém baixos em relação ao diiodometano(~45-60°). Mecanicamente, os filmes mostraram ter baixa dureza (~2GPa) e um caráter plástico, porém excelente módulo de elasticidade (acima de 120 GPa). Observam-se nanoestruturas e aparentemente, a partir de 15 minutos de sputteringde carbono, plaquetas (provavelmente de grafite) em sua estrutura. | |
