The effects of temperature on the structure and morphology of (Ti,Al)N coatings

Efecto de la temperatura en la estructura y morfología de recubrimientos de (Ti Al)N

dc.creatorBernal Salamanca, Mónica Emperatriz
dc.creatorBenavides, Victor Javier
dc.creatorArango, Yulieth Cristina
dc.date2013-09-04
dc.date2022-03-24T17:51:54Z
dc.date2022-03-24T17:51:54Z
dc.date.accessioned2023-08-28T19:21:01Z
dc.date.available2023-08-28T19:21:01Z
dc.identifierhttps://journal.poligran.edu.co/index.php/elementos/article/view/414
dc.identifier10.15765/e.v3i3.414
dc.identifierhttp://hdl.handle.net/10823/6237
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/8461231
dc.description(Ti,Al)N films were grown on a susbtrate of stainless steel by means PAPVD by controlled pulsed cathodic arc technique usinga target of TiAl (50/50 % atomic) in an Ar + N atmosphere. The coatings were deposited at different temperatures of the substrate, room temperature, 50 C and 100 C. The films were characterized structurally by means X-ray diffraction (XRD). With the purpose of determining microstrain, crystallite size and lattice parameter in function of the substrate temperature was used Rietveld method with PVII and SPV fitting funtions. The morphology study was made by means of atomic force microscopy (AFM), obtaining results about roughness and grain size.The results show that (200) orientation has more intensity than other planes and it keeps for different temperatures. The roughness diminishes with the increment of the substrate temperature.
dc.descriptionPelículas del (Ti,Al)N fueron crecidas sobre un sustrato deacero inoxidable por la técnica PAPVD por arco pulsado controlado usando un blanco de TiAl (50/50 % atómico) con atmósfera Ar + N Se crecieron a diferentes temperaturas del sustrato, a temperatura ambiente, 50 C y 100 C. Los recubrimientos fueron caracterizados estructuralmente con difracción de rayos X (XRD), con el fin de determinar las microtensiones, el tamaño del cristalito y el parámetro de red; en función de la temperatura del sustrato se utilizó el método Rietveld con funciones de ajuste PVII y SPV. La caracterización morfológica se realizó con la técnica de microscopia de fuerza atómica (AFM), obteniendo resultados de rugosidad y tamaño de grano. Los resultados muestran que la orientación (200) es el plano de mayor intensidad que se mantiene para las diferentes temperaturas. La rugosidad de la película decrece a medida que la temperatura del sustrato aumenta.
dc.formatapplication/pdf
dc.languagespa
dc.publisherPolitécnico Grancolombiano
dc.relationhttps://journal.poligran.edu.co/index.php/elementos/article/view/414/391
dc.sourceELEMENTOS; Vol. 3 No. 3 (2013): Elementos
dc.sourceElementos; Vol. 3 Núm. 3 (2013): Elementos
dc.source2248-5252
dc.source2027-923X
dc.source10.15765/e.v3i3
dc.subject(Ti
dc.subjectAl)N
dc.subjectanálisis estructural
dc.subjectmorfología de la super?cie
dc.titleThe effects of temperature on the structure and morphology of (Ti,Al)N coatings
dc.titleEfecto de la temperatura en la estructura y morfología de recubrimientos de (Ti Al)N
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/article
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.typeArtículo revisado por pares


Este ítem pertenece a la siguiente institución