dc.contributorGiacomini, R.
dc.creatorMadeira, Frederico Marion
dc.date2019-03-20T14:00:53Z
dc.date2023-05-03T20:39:19Z
dc.date2019-03-20T14:00:53Z
dc.date2023-05-03T20:39:19Z
dc.date2012
dc.date.accessioned2023-08-24T12:08:49Z
dc.date.available2023-08-24T12:08:49Z
dc.identifierMADEIRA, Frederico Marion. <b> Estudo comparativo entre tecnologias CMOS, NMOS e SOI em um circuito de APS. </b> 2012. 116 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2012 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=267>. Acesso em: 21 set. 2012.
dc.identifierhttps://hdl.handle.net/20.500.12032/89750
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/8421060
dc.languagepor
dc.languagept_BR
dc.publisherCentro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo
dc.subjectSemicondutores complementares de óxido metálico
dc.subjectTeste de penetração no solo
dc.titleEstudo comparativo entre tecnologias CMOS, NMOS e SOI em um circuito de APS
dc.typeDissertação


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