dc.contributorVasconcellos, Marcos Antonio Zen
dc.creatorBertol, Ana Paula Lamberti
dc.date2011-01-08T06:01:19Z
dc.date2010
dc.identifierhttp://hdl.handle.net/10183/27328
dc.identifier000764503
dc.descriptionNas técnicas de microanálise, como espectroscopia de emissão de raios X induzida por partículas (Particle Induced X Ray Emission - PIXE), o valor das intensidades medidas no espectro está relacionado com a concentração dos elementos correspondentes. Os programas que fazem esta transformação usam uma série de parâmetros físicos a fim de corrigir os efeitos da matriz. São algoritmos complexos e que precisam de uma vasta biblioteca de parâmetros, entre os quais a seção de choque de produção eficaz de raios X: uma medida da probabilidade de geração de fótons associados a uma linha característica. O objetivo deste trabalho é obter experimentalmente este parâmetro, a partir de medidas de PIXE em filmes finos, cujas espessuras foram obtidas usando as técnicas de Retroespalhamento de Rutherford (RBS) e a Refletometria de raios X (XRR).
dc.formatapplication/pdf
dc.languagepor
dc.rightsOpen Access
dc.subjectFilmes finos
dc.subjectEspectrometria de retroespalhamento rutherford
dc.subjectReflexão de raios-x
dc.titleDeterminação experimental de seção de choque de produção eficaz de Raios X com feixe de prótons para filmes de Alumínio e Al2O3
dc.typeTrabalho de conclusão de graduação


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