dc.contributorChávez Méndez, Martín Andrés
dc.creatorCoronado Barthé, Diana Rocio
dc.date2023-04-04T23:07:03Z
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dc.date2021
dc.date.accessioned2023-08-08T04:24:28Z
dc.date.available2023-08-08T04:24:28Z
dc.identifierhttps://doi.org/10.21142/tl.2021.2848
dc.identifierhttps://hdl.handle.net/20.500.12805/2848
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/8009093
dc.descriptionOBJETIVO: Revisar la distribución tensional a nivel de pilar e implante frente a cargas horizontales en dos modelos de implante de conexión interna: ranurado y hexágono interno; a traves de MEF. MATERIALES Y MÉTODOS: Dos modelos de conector interno fueron sometidos a tensión horizontal de 200N. Los diseños de los implantes fueron modelados mediante el software Solid Works 2015. Por medio del software CosmoWorks se pudo obtener los resultados. RESULTADOS: El resultado más bajo de mayor tensión ubicado en el implante, sometido a fuerzas horizontales, fue hallado en el (MEF 2) hexágono interno y a la altura del pilar en el (MEF 2) hexágono interno. CONCLUSIÓN: El modelo implante ranurado generó menor valor tensional a nivel de pilar e implante cuando es sometido a fuerzas horizontales, evidenciando su mejor distribución de cargas a este nivel.
dc.formatapplication/pdf
dc.languagespa
dc.publisherUniversidad Científica del Sur
dc.publisherPE
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rightshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
dc.subjectHexágono interno
dc.subjectElementos finitos
dc.subjectRanurado
dc.subjecthttp://purl.org/pe-repo/ocde/ford#3.02.14
dc.titleAnálisis de tensiones con el método de elementos finitos en dos tipos de conexión implante-pilar: hexágono interno y ranurado frente a cargas horizontales de 200N
dc.typeTesis de Licenciatura
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/bachelorThesis


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