Estudio de la resistividad del material en base de FeCl3 para registros holográficos

dc.contributorARTURO OLIVARES PEREZ
dc.contributorNIKOLAI KORNEEV ZABELLO
dc.creatorROSAURA VALLEJO MENDOZA
dc.date2012-08
dc.date.accessioned2023-07-25T16:22:16Z
dc.date.available2023-07-25T16:22:16Z
dc.identifierhttp://inaoe.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1009/777
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/7805994
dc.descriptionSe analizan las propiedades eléctricas de las películas orgánicas fotosensibles de volumen, partiendo de dos matrices fotosensibles para uso holográfico; nitrocelulosa y PVA. Ambas dopadas con FeCl3, comúnmente utilizando como fotosensibilizador. Con la técnica de cuatro puntas, se mide la resistividad de estas matrices, para evitar los efectos iónicos en la interface de material-electrodo, debido a que la película presenta un carácter hidrofílico, con la matriz de PVA, e hidrofóbico con la matriz de nitrocelulosa.
dc.formatapplication/pdf
dc.languagespa
dc.publisherInstituto Nacional de Astrofísica, Óptica y Electrónica
dc.relationcitation:Vallejo-Mendoza R.
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Interferometría holográfica/Holographic interferometry
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Medida de resistencia/Resistance measurement
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Polímeros/Polymers
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/cti/1
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/cti/22
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/cti/2209
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/cti/2209
dc.titleEstudio de la resistividad del material en base de FeCl3 para registros holográficos
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/masterThesis
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/acceptedVersion
dc.audiencestudents
dc.audienceresearchers
dc.audiencegeneralPublic


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