| dc.contributor | WILFRIDO CALLEJA ARRIAGA | |
| dc.creator | HIRAM ENRIQUE MARTINEZ MATEO | |
| dc.date | 2013-01 | |
| dc.date.accessioned | 2023-07-25T16:21:13Z | |
| dc.date.available | 2023-07-25T16:21:13Z | |
| dc.identifier | http://inaoe.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1009/266 | |
| dc.identifier.uri | https://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/7805486 | |
| dc.description | En este trabajo de tesis se estudia el micromaquinado de volumen en silicio de alto índice mediante la técnica de grabado húmedo anisotrópico. Se ofrece un compendio de los trabajos realizados en micromaquinado de volumen en dichos sustratos y sus aplicaciones. Además, se muestra la utilidad de las proyecciones estereográficas como método de predicción de morfologías y ubicación de planos en un sustrato arbitrario, así como su construcción mediante el uso de un programa computacional libre. Experimentalmente, se realizan procesos de grabado húmedo anisotrópico en sustratos {100}, {411}, {311}, {5 5 12}, para obtener la velocidad de grabado en función de la concentración de hidróxido de potasio presente en el grabante, en el rango de 10% a 50% en porcentaje de peso a 60° C. Adicionalmente, se analizan experimentos de grabado empleando concentraciones similares saturadas con alcohol isopropílico.
Se analiza la morfología superficial en función de la composición del grabante mediante microscopia de fuerza atómica para los distintos sustratos y en casos particulares, por microscopia de barrido de electrones. Además, se ofrece un método de alineación para sustratos cuya orientación esté indicada por una familia de planos equivalentes; se realiza micromaquinado de estructuras básicas en los sustratos de alto índice, analizando las morfologías obtenidas mediante perfilometría, microscopia óptica y de barrido de electrones; adicionalmente se verifica y propone la participación de planos particulares mediante el uso de proyecciones estereográficas.
Finalmente, un esquema de diseño y fabricación de elementos ópticos difractivos es propuesto. | |
| dc.format | application/pdf | |
| dc.language | spa | |
| dc.publisher | Instituto Nacional de Astrofísica, Óptica y Electrónica | |
| dc.relation | citation:Martinez-Mateo H.E. | |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
| dc.rights | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/Silicio de alto índice/High-index silicon | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/Bulk micromachining/Bulk micromachining | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/Grabado en húmedo anisotrópico/Anisotropic wet etching | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/Proyecciones estereográficas/Stereographic projections | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/cti/1 | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/cti/22 | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/cti/2203 | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/cti/2203 | |
| dc.title | Estudio del micromaquinado de volumen en silicio de alto índice | |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/masterThesis | |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/acceptedVersion | |
| dc.audience | students | |
| dc.audience | researchers | |
| dc.audience | generalPublic | |
