Growth Carbon Nitride thin films by pulsed laser deposition

Crecimiento de películas delgadas de Nitruro de Carbono por deposición con láser pulsado

dc.creatorRiascos Landázuri, Henry
dc.creatorFranco Arias, Lina María
dc.creatorPérez Taborda, Jaime Andrés
dc.date2011-03-07T15:09:31Z
dc.date2021-11-02T19:37:45Z
dc.date2011-03-07T15:09:31Z
dc.date2021-11-02T19:37:45Z
dc.date2007
dc.identifierScientia et Technica Año XIII, No. 36 (Septiembre 2007)
dc.identifier0122-1701
dc.identifierhttp://www.utp.edu.co/php/revistas/ScientiaEtTechnica/docsFTP/10295623.pdf
dc.identifierhttps://hdl.handle.net/11059/158
dc.descriptionHemos crecido películas delgadas de nitruro de carbono (CNx) mediante el Deposición por Láser Pulsado (DLP), usando como blanco grafito de alta pureza y como substrato silicio. Las películas fueron crecidas en un ambiente de gas de nitrógeno, variando la presión del gas, para dos valores de la fluencia del láser y dos valores de la temperatura del substrato. Estas películas fueron caracterizadas por Microscopia de Fuerza Atómica (AFM) y espectroscopia Raman. La rugosidad de las películas depende tanto de la presión del gas de trabajo como de la temperatura del substrato, sus estructuras son amorfas presentando los picos D y G, típicos de las estructuras tipo fulereno.
dc.descriptionWe have growth Carbon nitride (CNx) thin films by Pulsed Laser Deposition (PLD), on graphite target of high-purity and silicon substrate. The films were growth in a nitrogen ambient gas at different gas pressure, two values of fluence laser and two values of substrate temperature. Thin Films were characterized by Atomic Force Microscopy (AFM) and Raman Spectroscopy. AFM analysis reveals that the surface roughness depends of gas pressure and temperature substrate and, Raman analysis films shows an amorphous structure and doublepeak arrangement, D and G, typically of a fullerene-like microstructure.
dc.formatPDF
dc.formatapplication/pdf
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dc.languagespa
dc.publisherPereira : Universidad Tecnológica de Pereira
dc.publisherFacultad de Ciencias Básicas
dc.rightsAttribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International
dc.rightsOpen Access
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
dc.subjectMicroscopia de fuerza atómica
dc.subjectNitruro de carbono
dc.subjectPelículas delgadas
dc.subjectEspectroscopia de raman
dc.subjectAtomic force microscopy
dc.subjectCarbon nitride
dc.subjectLaser ablation
dc.subjectRaman spectroscopy
dc.subjectThin films
dc.titleGrowth Carbon Nitride thin films by pulsed laser deposition
dc.titleCrecimiento de películas delgadas de Nitruro de Carbono por deposición con láser pulsado
dc.typeArticle


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