Muestreo simple y doble para el monitoreo de unidades no conformes en procesos de alta calidad

Abstract

En este trabajo se propone un nuevo procedimiento, el gráfico de control con muestreo doble (MD), cuyo objetivo es mejorar la capacidad para detectar cualquier condición de fuera de control mediante la observación de una segunda muestra. La eficacia de este procedimiento se basa principalmente en el hecho de que permite observar cambios pequeños o moderados en la proporción de unidades no conformes del proceso, sin aumentar el muestreo. El muestreo doble es especialmente útil cuando se lo utiliza en procesos de alta calidad, en los cuales la proporción de unidades no conformes y el tamaño de la muestra son reducidos. En esta situación, una alternativa posible consiste en emplear el gráfico np mejorado en la primera etapa del muestreo, dado que este procedimiento ha mostrado una gran ventaja sobre el gráfico np habitual para atributos. La utilización del muestreo doble en una segunda etapa del muestreo, tiene, además, dos posibles ventajas. En primer lugar, permite reducir la cantidad total de inspección y en segundo lugar, le da al proceso una segunda oportunidad antes de tomar una decisión. Finalmente se muestran los beneficios del gráfico np mejorado con muestreo doble evaluados en términos de eficacia estadística (longitud media de corrida, ARL) y se lo compara con el mismo gráfico con muestreo simple. Además, se presenta el procedimiento para la elección adecuada del plan de muestreo doble en función de los cinco parámetros requeridos. El trabajo incluye una aplicación con datos reales que permite observar los beneficios del muestreo doble en el monitoreo y seguimiento de procesos de alta calidad.