dc.contributor | Huamani Echaccaya, José Luis | |
dc.creator | Cuillar Casanova, Yucely Juanita | |
dc.date.accessioned | 2021-11-06T02:10:51Z | |
dc.date.accessioned | 2023-05-30T22:02:02Z | |
dc.date.available | 2021-11-06T02:10:51Z | |
dc.date.available | 2023-05-30T22:02:02Z | |
dc.date.created | 2021-11-06T02:10:51Z | |
dc.date.issued | 2018 | |
dc.identifier | https://hdl.handle.net/20.500.12990/3105 | |
dc.identifier.uri | https://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/6462829 | |
dc.description.abstract | Objetivo: Determinar in vitro la resistencia al cizallamiento de la resina compuesta nanotecnológica Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización continua y discontinua en el año 2018. Materiales y métodos: Se realizó un estudio de nivel explicativo tipo experimental, prospectivo, longitudinal, analítico. La muestra fue 34 bloques de resina distribuidos según la fotopolimerización 17 para continua y 17 discontinua. La medida de los bloques fue 3mm de diámetro por 3mm de altura (resina reparadora) con bloques de base de 4mm de diámetro y 4mm de altura y un mango de acrílico rosado de 8mm de diámetro por 1cm de altura abrazando la resina base. El instrumento fue la máquina digital de ensayos universales CMT-5L marca LG a una velocidad de 5mm por minuto hasta alcanzar la fractura en la unión resina-resina calibrados en High Technology Laboratory Certicate. Resultados: La resina Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización discontinua tuvo mayor resistencia al cizallamiento media=20,34 ± 6,2 Mpa en comparación a la fotopolimerización continua media=15,5 ± 6,6 Mpa; con diferencia de medias -4,84118 IC95% [-9,34179 a -0,34056]. La resina Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización continua estuvo comprendido entre 2,8 a 27,9 Mpa con coeficiente de variación 0.429 (heterogéneos) y con fotopolimerización discontinua estuvo comprendido entre 11,4 a 31,7 Mpa con coeficiente de variación 0.305 (homogéneos). Conclusión: Con un p-valor=0,036 podemos concluir que se encontró diferencias significativas in vitro en la resistencia al cizallamiento de la resina compuesta nanotecnológica Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización discontinua en comparación a la fotopolimerización continua en el año 2018. | |
dc.language | spa | |
dc.publisher | Universidad Alas Peruanas | |
dc.publisher | PE | |
dc.rights | https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/ | |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
dc.subject | Fotopolimerización contínua | |
dc.subject | Fotopolimerización discontínua | |
dc.subject | Resina Filtek Bulk Fill® | |
dc.title | Estudio comparativo in vitro de la resistencia al cizallamiento de la resina compuesta nanotecnológica Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización continua y discontinua en el año 2018 | |
dc.type | info:eu-repo/semantics/bachelorThesis | |