dc.contributorAldao, Celso
dc.creatorTorres, Juan Pablo
dc.date2009-12-29
dc.date.accessioned2023-03-24T14:39:57Z
dc.date.available2023-03-24T14:39:57Z
dc.identifierhttp://rinfi.fi.mdp.edu.ar:8080/xmlui/handle/123456789/177
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/6280819
dc.descriptionEste trabajo tiene como objetivo tratar un número de aspectos de la problemática de la evolución de la rugosidad en la superficie del silicio, tanto en los procesos de deposición como de ataque químico húmedo (etching), mediante modelos atomísticos discretos. Se hace énfasis especial en el estudio de las propiedades de Scaling de los modelos y en la obtención de los exponentes de Scaling. Para la simulación de los modelos se ha empleado la técnica de Monte Carlo. Finalmente, se analizaron las morfologías obtenidas en las simulaciones.
dc.descriptionFil: Torres, Juan Pablo. Universidad Nacional de Mar del Plata. Facultad de Ingeniería
dc.formatapplication/pdf
dc.languagespa
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rightshttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.subjectSILICIO
dc.subjectATAQUE QUIMICO
dc.titleSimulación de ataque químico en sólidos cristalinos mediante modelos atomísticos discretos
dc.typeThesis
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/draft
dc.typeinfo:ar-repo/semantics/tesis de grado
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/bachelorThesis


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