SNRD
Estudio de procesos avanzados para la oxidación y posterior remoción de arsénico en Agua. Aplicación del proceso UV H2O2
Study of advanced processes for the oxidation and removal of arsenic from water. Application of UV H2O2 system.
Autor
Lescano, Maia Raquel
Lescano, Maia Raquel
Institución
Resumen
La contaminación con arsénico es un problema mundial. Debido a su toxicidad, se ha establecido una concentración máxima de 10 ppb para aguas de consumo. Las aguas subterráneas contienen las formas inorgánicas de As (III) (arsenito) y As (V) (arseniato). El arsenito es más tóxico y difícil de remover que el arseniato. Los procesos avanzados son más convenientes para la oxidación que los métodos tradicionales. El proceso UV H2O2 es eficiente y sencillo de implementar. Por otro lado, la adsorción es un proceso de remoción atractivo debido a su alta eficiencia y bajo costo. El objetivo de esta tesis es el estudio del proceso UV H2O2 combinado a una tecnología de adsorción para la remoción de arsénico en agua.
Las experiencias de oxidación fueron llevadas a cabo en un pequeño reactor empleando diferentes condiciones operativas. Se desarrolló un esquema de reacción y se estimaron los parámetros cinéticos. Para el estudio del proceso de adsorción, se evaluaron tres materiales mediante ensayos batch y en columna. Este proceso fue modelado obteniéndose las isotermas y curvas de ruptura. Finalmente, se construyó un equipo que combina ambos procesos a mayor escala y las experiencias se llevaron a cabo bajo diferentes condiciones operativas.
Puede concluirse que el proceso UV H2O2 es eficiente para la oxidación de arsénico(III) en agua. Además, la tecnología combinada es eficiente y prometedora para la remoción de arsénico a pequeña y mediana escala. Aplicando diferentes modelos para cada proceso, se logró diseñar un sistema combinado de remoción y predecir su desempeño. La contaminación con arsénico es un problema mundial. Debido a su toxicidad, se ha establecido una concentración máxima de 10 ppb para aguas de consumo. Las aguas subterráneas contienen las formas inorgánicas de As (III) (arsenito) y As (V) (arseniato). El arsenito es más tóxico y difícil de remover que el arseniato. Los procesos avanzados son más convenientes para la oxidación que los métodos tradicionales. El proceso UV H2O2 es eficiente y sencillo de implementar. Por otro lado, la adsorción es un proceso de remoción atractivo debido a su alta eficiencia y bajo costo. El objetivo de esta tesis es el estudio del proceso UV H2O2 combinado a una tecnología de adsorción para la remoción de arsénico en agua.
Las experiencias de oxidación fueron llevadas a cabo en un pequeño reactor empleando diferentes condiciones operativas. Se desarrolló un esquema de reacción y se estimaron los parámetros cinéticos. Para el estudio del proceso de adsorción, se evaluaron tres materiales mediante ensayos batch y en columna. Este proceso fue modelado obteniéndose las isotermas y curvas de ruptura. Finalmente, se construyó un equipo que combina ambos procesos a mayor escala y las experiencias se llevaron a cabo bajo diferentes condiciones operativas.
Puede concluirse que el proceso UV H2O2 es eficiente para la oxidación de arsénico(III) en agua. Además, la tecnología combinada es eficiente y prometedora para la remoción de arsénico a pequeña y mediana escala. Aplicando diferentes modelos para cada proceso, se logró diseñar un sistema combinado de remoción y predecir su desempeño. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
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