dc.creatorAlexander Fernández-Rodríguez; Anderson Fuentes-Claros; Diana Rocío Salcedo-Santamaría; Dr. Diego Noroña; José David Ruan-Antury; Eugenio José García
dc.date.accessioned2019-10-29T16:05:39Z
dc.date.accessioned2022-10-14T18:11:15Z
dc.date.available2019-10-29T16:05:39Z
dc.date.available2022-10-14T18:11:15Z
dc.date.created2019-10-29T16:05:39Z
dc.date.issued2013
dc.identifier
dc.identifier
dc.identifierhttp://hdl.handle.net/11086/13448
dc.identifier
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/4265874
dc.description.abstracttencia a la compresión de resinas compuestas a base de silorano y a base de metacrilato. Materiales y métodos: Treinta muestras con formato de disco fueron confeccionadas insertando las resinas, de forma incremental, en una matriz de aluminio (10 mm de diámetro × 15 mm de alto). El tiempo de fotoactivación de cada incremento fue de 20 segundos (Filtek? P60, 3M ESPE) y 40 segundos (Filtek? P90, 3M ESPE), utilizando una lámpara de luz halógena a 500 mW/cm2 . Luego de ser almacenadas en agua destilada a 23 ± 2 °C y 50 ± 5% de humedad relativa durante 40 horas, las muestras fueron sometidas al test de resistencia a la compresión, en una máquina de ensayos universal (1,3 mm/min). Los datos (en MPa) fueron analizados estadísticamente mediante ANOVA y prueba de Tukey (α=0,05). Resultados: Los valores de resistencia a la compresión de P60 fueron estadísticamente superiores a los de P90 (P60=371,91±58,76; P90=264,41±30,33). Conclusión: La resina compuesta a base de silorano presentó los valores más bajos de resistencia a la compresión.
dc.languagespa
dc.publisher
dc.rightshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
dc.rightsAttribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International
dc.subjectResistencia a la compresión; resinas compuestas; silorano; metacrilato
dc.titleResistencia a la compresión de resinas compuestas a base de metacrilato y de silorano
dc.typearticle


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