dc.contributorVICTOR ESTEBAN REYES CRUZ
dc.contributorJOSE ANGEL COBOS MURCIA
dc.contributorGUSTAVO URBANO REYES
dc.creatorFAMARI VALDEZ DE JESUS
dc.date2018
dc.date.accessioned2022-10-12T19:59:32Z
dc.date.available2022-10-12T19:59:32Z
dc.identifierhttp://ciateq.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1020/261
dc.identifier.urihttps://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/4126449
dc.descriptionEn gran parte de las empresas de galvanoplastia debido a la demanda y el tiempo de los procesos, es muy complicado realizar un estudio a nivel piloto en sus plantas para controlar las variables que determinan la calidad de los depósitos. Por lo tanto, en este trabajo se presenta un estudio para determinar las condiciones de corriente y potencial, así como evaluar algunos tipos de agitación para la operación de una planta piloto de galvanoplastia y controlar la calidad de los depósitos, utilizando algunas soluciones electrolíticas de la industria. Se utilizó una celda electrolítica típica con capacidad de 70 L conectada a una fuente de poder, como ánodos se usaron placas de latón y como cátodo se utilizó una lámina de acero inoxidable 304, utilizando un multímetro para registrar la corriente y el potencial durante el electrodepósitos. La agitación de la solución electrolítica se controló de tres formas: flujo de aire, propela y utilizando propela con un equipo sonotrodo (sonda de ultrasonido). Los resultados mostraron que el depósito de Cu-Zn (latonado) ocurre en un intervalo de corriente entre 0.45 a 0.55 A y un voltaje de -0.48 a -0.6 V, para evitar la evolución de hidrógeno y que solo se deposite cobre. También se determinó que el tipo de agitación donde se controla mejor el depósito es con la sonda de ultrasonido y la propela a una velocidad controlada, debido a que se evita una pasivación de la superficie de los ánodos por la formación de óxidos. Además permite obtener un flujo más controlado de los iones del ánodo hacia el cátodo (transporte de masa).
dc.descriptionIn large part of the electroplating companies due to the demand and time of the processes, it is very complicated to carry out experiments to study and control the variables that determine the quality of the deposits. Therefore, in this work a study is presented to determine the potential, current and agitation parameters for the operation of a pilot electroplating plant, using some electrolytic solutions of industry. A typical electrolytic cell with a capacity of 70 L connected to a power source was used. Two brass plates as anodes and a 304 stainless steel plate as cathode were used with two multimeters to record the current and the potential during the electrodeposition process. The agitation of the electrolytic solution was tested in three ways: air flow, propeller and using a propeller with a sonotrode device (ultrasound probe). The results showed that the deposit of Cu-Zn (brass) occurs in a current interval between 0.45 to 0.55 A and a voltage of -0.48 to -0.6 V, to avoid the evolution of hydrogen and that only copper will be deposited. It was also determined that the type of agitation where the deposit is better controlled is with the ultrasound probe and the propeller at a controlled speed, because a passivation of the surface of the anodes is prevented by oxides formation. It also allows obtaining a more controlled flow of metal ions from the anode to the cathode (mass transport).
dc.formatapplication/pdf
dc.languagespa
dc.publisherCIATEQ, A.C.
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rightshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Codepósito Cu-Zn
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Latonado
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Galvanoplastia
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Proceso de electrodepósito
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Soluciones electrolíticas
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Pasivación de electrodos
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Cu-Zn deposit
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Brass process
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Electroplating
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Electrodeposition process
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Electrolytic solutions
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/Palabra clave del autor/Electrode passivation
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/cti/7
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/cti/33
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/cti/3310
dc.subjectinfo:eu-repo/classification/cti/331006
dc.titleControl de parámetros de celda electrolítica en planta piloto de galvanoplastia
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/masterThesis
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/acceptedVersion
dc.audiencegeneralPublic


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