Colombia | masterThesis

Condiciones óptimas y análisis de sensibilidad para el diseño de un elemento óptico difractivo para litografía por escritura directa

dc.contributorCadavid, Juan José
dc.contributorJaramillo Ocampo, Juan Manuel
dc.creatorCortés Gálvez, Jaime Eduardo
dc.date.accessioned2020-02-11T17:50:41Z
dc.date.accessioned2022-09-23T22:14:54Z
dc.date.available2020-02-11T17:50:41Z
dc.date.available2022-09-23T22:14:54Z
dc.date.created2020-02-11T17:50:41Z
dc.date.issued2019
dc.identifierhttp://hdl.handle.net/10784/15694
dc.identifier621.04 C828
dc.identifier.urihttp://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/3541535
dc.languagespa
dc.publisherUniversidad EAFIT
dc.publisherMaestría en Física Aplicada
dc.publisherEscuela de Ciencias. Departamento de Ciencias Básicas
dc.publisherMedellín
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rightsAcceso abierto
dc.subjectCondiciones óptimas
dc.subjectElemento óptico difractivo
dc.subjectAnálisis de sensibilidad
dc.subjectPropagador de espectro angular
dc.subjectComplejidad algorítmica
dc.titleCondiciones óptimas y análisis de sensibilidad para el diseño de un elemento óptico difractivo para litografía por escritura directa
dc.typemasterThesis
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/masterThesis


Este ítem pertenece a la siguiente institución