bachelorThesis
Optimización de los parámetros de trabajo para la implementación de la técnica CVD asistido por aerosol en la UTP
Registro en:
T530.4275 R586;6310000122843 F6048
Autor
Rios Bravo, Bayron Esteban
Institución
Resumen
En las últimas décadas la deposición de películas delgadas ha experimentado un incremento considerable debido a la necesidad de obtener nuevos productos y dispositivos adaptables en los diferentes campos de la industria. Sin embargo, el objetivo fundamental de estas radica en la modificación de las propiedades de la superficie de un material, dirigido a obtener una mejora en las propiedades del conjunto capa-sustrato o, en otros casos, para realizar una función específica (recubrimientos funcionales) [1]. De esta forma se ha implementado la síntesis de películas delgadas por métodos como Baño Químico (CBD), Deposición Química de Vapor (CVD) y asistida por aerosol (CVDAA), Evaporación térmica, Electrón Beam Evaporation y Sputtering [2]; en particular la deposición química de vapor (CVD) asistido por aerosol, llama la atención en la comunidad científica debido a su bajo costo de implementación y su simplicidad ya que por medio de esta se realizan recubrimientos en sustratos con geometrías complejas teniendo como resultado una distribución uniforme de la solución precursora sobre la superficie del sustrato, obteniendo así revestimientos de alta calidad [3]. La técnica de depósito químico de vapor asistido por aerosol (CVDAA), consiste principalmente en un proceso de atomización de una solución precursora en forma de gotas de diámetros muy pequeños y arrastradas por un gas transportador hacia la superficie de un sustrato previamente calentado, seguidamente ocurre un proceso de descomposición del material cerca o en la superficie del sustrato; esto, a causa de los diferentes cambios químicos y físicos producidos por el tamaño de las gotas y la temperatura. Finalmente, el material forma distintas estructuras nanométricas sobre el sustrato, también llamadas películas delgadas [4]. En este trabajo se presenta el proceso de optimización de los parámetros de depósito del equipo de CVDAA implementado en el Grupo de Investigación de Propiedades Magnéticas y Magnetoópticas de Nuevos Materiales (GIMM), con el fin de obtener películas delgadas uniformes de óxido de titanio, las cuales se compararon con aquellas obtenidas con otro equipo implementado en el Centro de Investigación en Materiales Avanzados (CIMAV) de Chihuahua, México, como un método indirecto de aseguramiento de la calidad de las películas obtenidas.