| dc.contributor | HILDA ESPERANZA ESPARZA PONCE | |
| dc.creator | CÉSAR OCTAVIO ENCINAS BACA | |
| dc.date | 2006-12 | |
| dc.date.accessioned | 2018-11-19T14:34:01Z | |
| dc.date.available | 2018-11-19T14:34:01Z | |
| dc.identifier | http://cimav.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1004/913 | |
| dc.identifier.uri | http://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/2259836 | |
| dc.description | Las películas nitruradas de metales de transición son muy importantes por sus
propiedades tribológicas, dichas propiedades aumentan la vida útil de herramientas
de corte, dados, moldes, estas propiedades mecánicas (alta dureza, alta resistencia
al desgaste, lubricación), junto a la estabilidad química (resistencia a la corrosión),
propiedades térmicas (conductividad), propiedades eléctricas, aplicadas a partes
automotrices y aeroespaciales muestran mejor desempeño de sus componentes [1].
Las películas nitruradas son depositadas utilizando una gran variedad de técnicas
de deposición de vapor ya sean físicas o químicas. Las técnicas de CVD (chemical
vapor deposition) utilizan temperaturas que normalmente exceden los 1000°C que
puede afectar las propiedades de algunos sustratos; de forma alterna las técnicas de
PVD utiliza temperaturas de deposición más bajas, por debajo de 500 °C
permitiendo a los sustratos retener sus propiedades mecánicas, además la película o
el recubrimiento puede exhibir esfuerzos residuales compresivos que inhiben la
propagación de grietas, así como granos microestructurales finos dependiendo de
la técnica PVD utilizada [2].
Los recubrimientos de TiN producidos mediante técnicas de deposición de vapor
físicas (PVD) han sido estudiadas extensivamente desde los comienzos de los
ochentas [3]. Dependiendo de la técnica PVD utilizada y las condiciones de
deposición se obtendrán diferentes microestructuras y propiedades en la película
[3]. | |
| dc.description | En el caso específico de deposición de películas con erosión catódica reactiva, la
presión parcial de nitrógeno, la aplicación de temperatura y voltaje al sustrato,
potencia (W), velocidad de rotación del porta sustratos juegan un papel importante
en la deposición de películas. Un parámetro importante en la deposición de
películas delgadas es el tratamiento del sustrato antes de la deposición del material
dado que influye enormemente en la calidad y desempeño de un recubrimiento. El
tratamiento preeliminar normalmente consiste, en dos etapas: una etapa de pulido
superficial y de ataque de la superficie con algún agente químico.
En general, sea cual sea la técnica de deposición utilizada el sistema
recubrimiento/sustrato permanece constante, la rugosidad, las propiedades del
sustrato, orientación cristalina, compatibilidad con el recubrimiento, ínter difusión,
impactaran en el desempeño de la película, [5]. | |
| dc.format | application/pdf | |
| dc.language | spa | |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
| dc.rights | http://creativecommons.org/about/cc0/ | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/Propiedades mecánicas/Películas nitruradas de metales de transición | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/cti/2 | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/cti/23 | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/cti/2399 | |
| dc.subject | info:eu-repo/classification/cti/239999 | |
| dc.title | Deposición de Películas Delgadas de TiN mediante Erosión Catódica Reactiva sobre Sustratos Nanoporosos de Alúmina | |
| dc.type | Tesis | |
| dc.type | Artículos de revistas | |
