| dc.creator | Avilez Filho, Oseas Valente de, 1950- | |
| dc.date | 1978 | |
| dc.date | 2017-03-14T03:48:52Z | |
| dc.date | 2017-07-13T19:46:58Z | |
| dc.date | 2017-03-14T03:48:52Z | |
| dc.date | 2017-07-13T19:46:58Z | |
| dc.date.accessioned | 2018-03-29T03:53:34Z | |
| dc.date.available | 2018-03-29T03:53:34Z | |
| dc.identifier | AVILEZ FILHO, Oseas Valente de. Projeto e construção de um controlador de temperatura para fornos de difusão. 1978. 1v.(varias paginações). Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: <http://libdigi.unicamp.br/document/?code=000044477>. Acesso em: 14 mar. 2017. | |
| dc.identifier | http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260432 | |
| dc.identifier.uri | http://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/1337802 | |
| dc.description | Orientador: Carlos Ignacio Zamitti Mammana | |
| dc.description | Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas | |
| dc.description | Resumo: O controlador de temperatura desenvolvido no L.E.D. é composto por um controlador mestre e pois escravos, todos com controle do tipo PID e com saídas compatíveis com chaveamento de chaves controladas semicondutoras(TRIAC's,ou SCR's). Pode ser utilizado em fornos com uma única zona de aquecimento ou em fornos com três zonas de aquecimento, quando se deseja maior uniformidade no perfil de temperatura. Suas características mais importantes são a alta estabilidade (melhor que +/- 1/2°C durante oito horas) e a pequena variação do ponto de operação por efeitos de temperatura ambiente (menor que 0,1°C/°C), o que possibilita sua utilização em fornos para difusão de impurezas em semicondutores, processo este muito crítico na fabricação de dispositivos. Este tipo de controlador tem utilidade tanto em fornos de laboratório como em fornos para produção industrial. Os sensores utilizados foram termopares de Platina/Platina-Ródio, o que permitiu obter, com circuitos de linearização simples, exatidão na temperatura melhor que 0,5% em toda a faixa de operação, que vai e 400 °C a 1300 °C. Os circuitos de seleção do ponto de operação foram projetados de modo a permitir o uso de outros tipos de termopares, através de substituição de alguns componentes passivos. O trabalho está apresentado de forma a permitir a compreensão dos objetivos e resultados alcançados (Capítulos I e 2) sem entrar em detalhes de circuitos eletrônicos, que são descritos em apêndices, um para cada bloco funcional do controlador. | |
| dc.description | Abstract: Not informed. | |
| dc.description | Mestrado | |
| dc.description | Mestre em Engenharia Eletrica | |
| dc.format | 1v.(varias paginações). : il. | |
| dc.format | application/pdf | |
| dc.language | Português | |
| dc.publisher | [s.n.] | |
| dc.subject | Controladores PID | |
| dc.subject | Controle de temperatura | |
| dc.subject | Fornos | |
| dc.title | Projeto e construção de um controlador de temperatura para fornos de difusão | |
| dc.type | Tesis | |
