Design of 2D photonic layers and fabrication using multiple holographic exposures

dc.creatorMenezes, Jacson Weber de
dc.date2006
dc.date2006-07-28T00:00:00Z
dc.date2017-03-29T10:23:53Z
dc.date2017-06-14T17:35:38Z
dc.date2017-03-29T10:23:53Z
dc.date2017-06-14T17:35:38Z
dc.date.accessioned2018-03-29T02:45:56Z
dc.date.available2018-03-29T02:45:56Z
dc.identifier(Broch.)
dc.identifierMENEZES, Jacson Weber de. Projetos de camadas fotônicas 2D e fabricação utilizando múltiplas exposições holográficas. 2006. 75f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.bibliotecadigital.unicamp.br/document/?code=vtls000411174>. Acesso em: 29 mar. 2017.
dc.identifierhttp://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278201
dc.identifier.urihttp://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/1320989
dc.descriptionOrientador: Lucia Helena Deliesposte Cescato
dc.descriptionDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin
dc.descriptionResumo: Nesta dissertação foi desenvolvido um novo método de gravação de estruturas bidimensionais em fotorresina, baseado na superposição de três exposições holográficas. Utilizando esta técnica, foi possível gravar estruturas de seção transversal circular. Isso resolve o problema da redução da área do gap fotonico que ocorre com as estruturas cilíndricas de seção transversal elíptica, obtida quando são utilizadas apenas duas exposições. Controlando-se a fase entre a terceira exposição e as duas anteriores é possível também gerar padrões hexagonais com diferentes formas de cilindros, que correspondem aos "átomos" do cristal fotonico, que podem apresentar novas propriedades fotonicas. Para projetar cristais fotonicos que apresentam gap fotonico na região de interesse do espectro eletromagnético, foi utilizado um programa baseado no método dos elementos finitos. Nestes projetos foram consideradas as dimensões e formas que podem ser fabricadas utilizando a técnica de dupla exposição holográfica assim como foi utilizada a aproximação de índice de refração equivalente para levar em conta a espessura da camada fotonica. Utilizando a superposição de duas exposições holográficas, associadas à litografia por corrosão por íon reativo, foram feitas tentativas de fabricação das camadas fotonicas projetadas em três materiais diferentes: silício policristalino, silício amorfo hidrogenado e silício cristalino
dc.descriptionAbstract: In this work, it was developed a new recording method of the 2D structures in photoresist, based on the superimposition of three holographic expositions. This technique solves the problem of asymmetry of hexagonal structures, arising from the superimposition of only two expositions, which causes a strong reduction of the photonic band gap area. By controlling the phase-shift between the third exposition and the former two exposures, it is possible to generate new hexagonal patterns that can present different properties. In the design of the 2D photonic layers that present Photonic Band Gaps in the near infra-red region of the electromagnetic spectrum, it was used a software based on finite elements method. To consider the thickness of the photonic layer it was used the approach of equivalent refractive index. In the design we take into account the dimensions and shapes that can be fabricated using the technique of holographic lithography associated with RIE (Reactive Ion Etching). For fabrication of the structures we used double holographic exposures followed by RIE lithography in three different materials: poly-silicon, amorphous silicon and crystalline silicon
dc.descriptionMestrado
dc.descriptionFísica da Matéria Condensada
dc.descriptionMestre em Física
dc.format75f. : il.
dc.formatapplication/pdf
dc.languagePortuguês
dc.publisher[s.n.]
dc.subjectLitografia holográfica
dc.subjectCristais fotônicos 2D
dc.subjectHolographic lithography
dc.subject2D photonic crystals
dc.titleProjetos de camadas fotônicas 2D e fabricação utilizando múltiplas exposições holográficas
dc.titleDesign of 2D photonic layers and fabrication using multiple holographic exposures
dc.typeTesis


Este ítem pertenece a la siguiente institución