Buscar
Mostrando ítems 31-40 de 75
Effect Of Ion Irradiation On The Structural Properties And Hardness Of A-c:h:si:o:f Films
(IOP PUBLISHING LTDBRISTOL, 2015)
Modification of plasma-polymerized organosiloxane films by irradiation with He+, Ne+, Ar+, and Kr+ ions
(Amer Chemical SocWashingtonEUA, 2005)
Caracterización de películas de almidón de papa, maíz y amaranto tratadas con plasma frío
(2018-04-04)
RESUMEN: El almidón es un polisacárido natural renovable, abundante y de bajo costo a partir del cual se pueden obtener películas biodegradables; sin embargo, la presencia de grupos hidroxilo en las moléculas de polisacárido ...
Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2012-05-10)
Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado contendo silício e dopados com flúor foram produzudos pelos métodos de Deposição de Vapor Químico Assistido e Plasma (PECVD) e Deposição e Implantação Iônica por Imersão em Plasma ...
Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2012-05-10)
Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado contendo silício e dopados com flúor foram produzudos pelos métodos de Deposição de Vapor Químico Assistido e Plasma (PECVD) e Deposição e Implantação Iônica por Imersão em Plasma ...
Avaliação das características de superfície e formação de biofilmes em materiais odontológicos tratados em plasmas de HMDSO
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2015-03)
Dental materials act as substrates for the adhesion of microorganisms, and consequently, for biofilm development. Given that the surface characteristics of materials may interfere in the initial adhesion, changes in these ...
Effect Of The Plasma Excitation Power On The Properties Of Sioxcyhz Films Deposited On Aisi 304 Steel
(Elsevier Science SALausanne, 2017)
Propriedades ópticas e mecânicas de filmes finos a-C:H:Si:O:N e a-C:H:Si:F:N produzidos por deposição à vapor químico assistido por plasma
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2021-08-02)
Filmes do tipo a-C:H:Si:O, onde a indica amorfo, têm potencial para aplicações tribológicas e apresentam boa estabilidade térmica e adesão a diversos substratos. Filmes a-C:H:Si:N e a-Si:N:H são úteis como revestimentos ...
Produção e caracterização de filmes de carbeto de silício amorfo hidrogenado o (a-SiC:H) depositados por plasma à partir de precursores líquidos sobre liga de titânio (Ti-6Al-4V)
(Universidade Federal de São Paulo (UNIFESP), 2015-11-02)
The hydrogenated amorphous silicon carbide (a-SiC:H) shows several features that make it desirable for thibological application. Among them are high hardness, low friction coefficient, high corrosion resistance and high ...