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Mostrando ítems 1-10 de 89

Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante

Alvarado Alcocer, Juan Carlos ([s.n.], 1999)

Influência da temperatura e composição dos gases no recobrimento de fibras de carbono com etanol

Reck, Marcus Vinícius Gomes [UNIFESP] (Universidade Federal de São Paulo, 2022-02-03)

O método de infiltração química em fase vapor (CVI – Chemical Vapor Infiltration) é uma variante da técnica de deposição química em fase vapor (CVD – Chemical Vapor Deposition) e foi desenvolvida em 1960 para a produzir ...

Modelo microscopico de interação molecular para simular reações na fase gasosa e de interação gas/suérficie durante e deposição de filmes finos de diamante em reatores de filamento quente (HFCVD)

Amstalden, João Fidelis ([s.n.], 2000)

Influencia de gases nobres no crescimento de diamante e de nanoestruturas de carbono pelo metodo de deposição quimica a partir da fase vapor (CVD)

Ceragioli, Helder Jose ([s.n.], 2001)

Resistencia a oxidacao de um aco comercial recoberto por um filme de Cr2O3 por meio da tecnica de deposicao quimica em fase vapor

PILLIS, M.F.; GALEGO, M.; SERNA, M.M.; CORREA, O.V.; RAMANATHAN, L.V.; CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIENCIA DOS MATERIAIS, 19. (2014)

Caracterizacao de revestimentos TiOsub(2)/TiN com estrutura de multicamadas obtidos por deposicao quimica em fase vapor

GOLCALVES, A.; SACILOTTI, M.; FRANCO, A.C.; PILLIS, M.F.; CONGRESSO BRASILEIRO DE CERAMICA, 54. (2014)

Caracterizacao de filmes finos de Crsub(2)Osub(3)obtidos por deposicao quimica em fase vapor

PILLIS, M.F.; GALEGO, E.; SERNA, M.M.; FRANCO, A.C.; CORREA, O.V.; RAMANATHAN, L.V.; CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIENCIA DOS MATERIAIS, 19. (2014)

Estudo da estabilidade termodinâmica de filmes ultrafinos de HfO/sub 2/ sobre Si

Bastos, Karen Paz (2007)

Desenvolvimento de um reator para o crescimento de filmes diamantiferos tubularesDevelopment of a reactor for growth of diamond tubular films

Zanin, Hudson Giovani, 1983- ([s.n.], 2008)

Obtenção e caracterização de filmes finos de oxido, nitreto e oxinitreto de silicio por deposição ECR-CVDSynthesis and characterization of oxide nitride and silicon oxynitride thin films by ECR-CVD

Biasotto, Cleber ([s.n.], 2005)

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