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Mostrando ítems 41-50 de 563
Análise de dissipadores de calor com filmes de diamante CVD
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2008-06-27)
Dissipadores de calor recobertos com filmes de diamante CVD foram desenvolvidos para acoplar a semicondutores, utilizando-se do Laboratório de Deposição de Filmes de Diamante CVD, na UNESP - Campus de Guaratinguetá e o ...
CeO/CuOx nanostructured films for CO oxidation and CO oxidation in hydrogen-rich streams using a micro-structured reactor
(Springer/Plenum Publishers, 2019-05)
The CO oxidation reaction has a strong implication in environmental catalysis; besides a promising performance of CeO2/CuOx systems in inverse coniguration has been demonstrated, in which ceria is deposited in larger copper ...
Micro-reactores basados en películas microporosas funcionalizadas con nanopartículas
(2018-03-02)
The objective of this Thesis is to investigate the development of films of new microporous materials that can act as means of dispersion of active phases, to be used in solid-gas catalytic reactions.Particularly, it focuses ...
Mesoporous thin film structures as metal nanoparticle reactors for electronic circuits: Effects of matrix crystallinity and nanoparticle functionalization
(Academic Press Ltd - Elsevier Science Ltd, 2017-09)
There is an increasing interest in versatile nanoelectronic structures based on stable, accessible and spatially located arrays of metal nanoparticles. In this study, the influences of mesoporous titania thin film crystallinity ...
Propriedades químicas e ópticas de filmes de carbono amorfo halogenados produzidos por deposição a vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (DIIIP)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2013-08-09)
Neste trabalho, filmes finos amorfos de carbono hidrogenado também contendo bromo foram produzidos por duas técnicas: Deposição e Implantação iônica por Imersão em Plasma (DIII). As deposições foram feitas em plasmas ...
Propriedades químicas e ópticas de filmes de carbono amorfo halogenados produzidos por deposição a vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (DIIIP)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2013-08-09)
Neste trabalho, filmes finos amorfos de carbono hidrogenado também contendo bromo foram produzidos por duas técnicas: Deposição e Implantação iônica por Imersão em Plasma (DIII). As deposições foram feitas em plasmas ...
TiO2-fixed-bed reactor for water decontamination using solar light
(Pergamon-elsevier Science LtdOxfordInglaterra, 1996)
Caracterização de Filmes a-C:H:Cl e a-C:H:Si:Cl produzidos por deposição à vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)Films characterization of a-C:H:Cl and a-C:H:Si:Cl made by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) and plasma immersion ion implantation and deposition (PIIID)
(Universidade Estadual Paulista (Unesp), 2016)