A utiliza????o do ZnO no campo da nanotecnologia ?? ampla devido a caracter??sticas f??sicas ??nicas tais como, banda proibida (~3,37 eV), energia de liga????o de ??xciton de 60 MeV, at??xico e de baixo custo. A estrutura cristalina hexagonal permite obter uma ampla diversidade de morfologias e isto permite sua utiliza????o em: lasers de UV, cristais piezoel??ctricos, sensores qu??micos, sensores de g??s, diodos emissores de luz, foto detectores e c??lulas solares. Uma das poss??veis morfologia do filme fino de ZnO ?? um arranjo unidimensional submicrom??trico de bast??es, nanobast??es e nanofios, o qual tem atra??do muito interesse devido a alta ??rea superficial e a alta propor????o de aspecto, que s??o nanopart??culas com um comprimento muitas vezes maior do que sua largura. Neste trabalho foi estudada a influ??ncia dos par??metros do m??todo de adsor????o de camada i??nica e rea????o sucessivas (SILAR) na obten????o de filmes de ZnO nanoestruturados sobre substrato de vidro recoberto com ??xido de estanho dopado com fl??or (SnO2:F). Na temperatura de 90??C ocorreu a forma????o de ZnO e o aumento de nanoestruturas formadas. A quantidade de ciclos e respons??vel pela densidade superficial, o crescimento acelerase ap??s se atingir a densidade superficial critica. O tempo de perman??ncia no banho de nuclea????o n??o tem influ??ncia significativa, j?? no banho de crescimento com o aumento do tempo ocorreu coalescimento das nanoestruturas. O uso do cloreto de zinco como precursor no banho de nuclea????o apresentou crescimento mais lento para concentra????es molares baixas, o aumento da concentra????o molar resultou em filmes porosos. Os resultados obtidos neste estudo mostraram que altera????es simples nas vari??veis do processo SILAR para obten????o de ZnO permitiram desde a obten????o de nanoestruturas individuais a filmes compactos ou porosos.