Filmes finos de TiO2 e N:TiO2, e multicamadas TiO2/N:TiO2 foram crescidos sobre substratos de a??o AISI 316 e Si(100), por meio da t??cnica de deposi????o qu??mica de organomet??licos em fase vapor (MOCVD). Foram produzidos filmes com diferentes espessuras, nas temperaturas de 400 e 500??C. Os filmes foram caracterizados utilizando-se t??cnicas de difra????o de raios X (DRX), espectroscopia de fotoel??trons excitados por raios x (XPS) e microscopia eletr??nica de varredura (MEV). A resist??ncia ?? corros??o foi avaliada por meio de testes de polariza????o potenciodin??mica em eletr??lito 3,5%p NaCl. Filmes n??o dopados, crescidos a 400??C, apresentaram TiO2 anatase, enquanto que os crescidos a 500??C apresentaram a fase rutilo, al??m de anatase. Nos filmes dopados com nitrog??nio (7,29 e 8,29 at% a 400 e 500??C, respectivamente), em ambas as temperaturas, houve a forma????o de TiO2 anatase, bem como de fases contendo nitrog??nio. Os filmes de TiO2 crescidos a 400??C ofereceram melhor prote????o contra a corros??o que os crescidos a 500??C. Filmes crescidos a 500??C apresentaram estrutura colunar, que representa alto n??vel de porosidade, enquanto que os filmes crescidos a 400??C apresentaram estrutura mais densa. A dopagem n??o foi eficiente para proteger o substrato contra corros??o, provavelmente devido ?? forma????o das fases contendo nitrog??nio. Os resultados para os testes com filmes compostos por multicamadas sugerem que aqueles com mais interfaces apresentam melhor resist??ncia ?? corros??o. O processo de corros??o das amostras se inicia na superf??cie do filme, que est?? em contato com o meio agressivo, originando pites, que permitem ao meio corrosivo acessar o substrato met??lico. O metal ?? atacado e dissolvido sob o filme, e resulta na delamina????o do filme.Disserta????o (Mestrado em Tecnologia Nuclear)IPEN/DInstituto de Pesquisas Energ??ticas e Nucleares - IPEN-CNEN/SP