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Brasil
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Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares (Brasil)
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Artigo de peri??dico
Electrodeposition of Te and Cu thin films on boron doped diamond (BDD) electrode
Registro en:
1938-5862
http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/8270
27
26
https://repositorioslatinoamericanos.uchile.cl/handle/2250/8978913
Autor
FERNANDES, V.C.
MATSUSHIMA, J.T.
BALDAN, M.R.
AZEVEDO, A.F.
LINARDI, M.
FERREIRA, N.G.
Institución
Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares (Brasil)
Materias
boron
doped materials
diamonds
electrodes
chemical vapor deposition
filaments
films
semiconductor materials
copper
tellurides
scanning electron microscopy
voltametry
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