Ciclos voltamétricos repetitivos do ferro em soluções de NaOH contendo concentrações variáveis de silicato entre 10 ppm e 1500 ppm, mostram comportamentos diferentes da primeira varredura quando comparada com as subsequentes, em todas as soluções testadas. Esta diferença indica uma modificação do processo de formação do filme com a ciclagem. Foi observada uma transição do perfil i/E entre 10 ppm e 100 ppm de silicato o que permite formular considerações sobre a incorporação de silicato ao filme.Repetitive voltammetric cycling of iron in NaOH solutions containing variable silicate concentrations between 10 ppm and 1500 ppm, shows different behaviour for the first scan when compared to the following ones in all studied solutions. This difference indicates a modification on the film formation process. A transition in the i/E profile between 10 ppm and 100 ppm of silicate was observed allowing considerations about silicate incorporation to be formulated.