La presente invención presenta un método para la modificación de la rugosidad en materiales poliméricos y semiconductores, a través de un proceso que se basa en la exposición de las superficies de los materiales a descargas coronas utilizando un material que recibe las descargas corona directamente haciendo de intermediario entre las descargas y las superficies a modificar. La utilización del intermediario produce una reducción en la rugosidad en materiales poliméricos y un aumento en la rugosidad en materiales semiconductores.