En el presente trabajo se abordan los resultados del estudio de las películas delgadas de WO3 depositadas por la técnica de sputtering reactivo, desde el punto de vista de caracterización de la estructura cristalina y microestructura de las películas. Existen diferentes trabajos en los que se han sintetizado películas delgadas de WO3 por la técnica de sputtering y donde se han evaluado sus propiedades eléctricas, ópticas o de sensado de gases; sin embargo, se han reportado en estos trabajos diferentes estructuras cristalinas, aunque el método de síntesis sea el mismo. La variación de los parámetros de sputtering o de tratamiento térmico puede generar diferencias en sus estructuras y por lo tanto diferencias a la hora de evaluar las propiedades físicas de las películas. Las películas sintetizadas por sputtering reactivo fueron sometidas a tratamientos térmicos sucesivos con el fin de obtener la estructura cristalina Ortorrómbica, durante estos tratamientos fueron encontradas dos estructuras cristalinas de diferentes simetrías, Krasnogorite y β–WO3. Las películas delgadas de WO3 obtuvieron cambios en la resistividad al estar en presencia del gas CO2 teniendo una respuesta hasta del 15% y un 98% cuando era expuesta en un gas inerte como el Argón.