Se utilizó el sputtering para la formación de una película delgada de niobato de litio a condiciones de temperatura ambiente, potencia de 50 y 30 watts, en una atmósfera de argon y a una presión de trabajo de 3X10-3 Torr, la cual fue sometida al difractrómetro de rayos X y al AFM para su caracterización piezoelétrica.